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光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻,所以叫MaskAlignmentSystem。目前,世界上能制造光刻機的國家有荷蘭、日本、德國和中國。
目前能制造高端光刻機的廠家有:荷蘭ASML,日本Nikon,日本Canon,以及上海微電子裝備和德國的歐泰克。
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