地球臭氧層破壞的主要原因是什么
地球臭氧層破壞的主要原因是什么
地球臭氧層破壞的主要原因是過多地使用氯氟烴類化學物質，氯氟烴是一種人造化學物質，1930年由美國的杜邦公司投入生產，在第二次世界大戰后，尤其是進入60年以后開始大量使用，主要用作氣溶膠、制冷劑、發泡劑等。氯氟烴在低層大氣平流層中，由于強烈的太陽光的作用，氧經過光化學反應后生成臭氧。平流層中的臭氧是日光中短波紫外線的天然過濾器，如果臭氧層被破壞，強烈的紫外線將直接照射到地面上，使地球上的生物受到不同程度的傷害。
導讀地球臭氧層破壞的主要原因是過多地使用氯氟烴類化學物質，氯氟烴是一種人造化學物質，1930年由美國的杜邦公司投入生產，在第二次世界大戰后，尤其是進入60年以后開始大量使用，主要用作氣溶膠、制冷劑、發泡劑等。氯氟烴在低層大氣平流層中，由于強烈的太陽光的作用，氧經過光化學反應后生成臭氧。平流層中的臭氧是日光中短波紫外線的天然過濾器，如果臭氧層被破壞，強烈的紫外線將直接照射到地面上，使地球上的生物受到不同程度的傷害。
地球臭氧層破壞的主要原因是過多地使用氯氟烴類化學物質，氯氟烴是一種人造化學物質，1930年由美國的杜邦公司投入生產，在第二次世界大戰后，尤其是進入60年以后開始大量使用，主要用作氣溶膠、制冷劑、發泡劑等。氯氟烴在低層大氣平流層中，由于強烈的太陽光的作用，氧經過光化學反應后生成臭氧。平流層中的臭氧是日光中短波紫外線的天然過濾器，如果臭氧層被破壞，強烈的紫外線將直接照射到地面上，使地球上的生物受到不同程度的傷害。
地球臭氧層破壞的主要原因是什么
地球臭氧層破壞的主要原因是過多地使用氯氟烴類化學物質，氯氟烴是一種人造化學物質，1930年由美國的杜邦公司投入生產，在第二次世界大戰后，尤其是進入60年以后開始大量使用，主要用作氣溶膠、制冷劑、發泡劑等。氯氟烴在低層大氣平流層中，由于強烈的太陽光的作用，氧經過光化學反應后生成臭氧。平流層中的臭氧是日光中短波紫外線的天然過濾器，如果臭氧層被破壞，強烈的紫外線將直接照射到地面上，使地球上的生物受到不同程度的傷害。
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