侵犯專利罪的構成要件如下:
1、客體要件
侵犯專利罪侵犯的客體是他人的專利所有權和國家的專利管理制度。
2、客觀要件
(1)具有假冒他人專利的行為。
(2)假冒專利的行為必須是發(fā)生在專利權期限內(nèi)。
(3)情節(jié)嚴重是構成本罪的必備要件。情節(jié)嚴重是指假冒他人專利手段惡劣、非法獲利數(shù)額較大、給專利人或國家造成重大損害的、在國際國內(nèi)造成惡劣影響的等。
3、主體要件
侵犯專利罪的主體是一般主體,企業(yè)、事業(yè)單位和個人均可構成。
4、主觀方面
侵犯專利罪的主觀方面是故意,一般具有非法獲取經(jīng)濟利益的目的,但也有的是出于損害他人的聲譽,破壞他人專利權益的目的。
【法律依據(jù)】
《刑法》第二百一十六條規(guī)定,假冒他人專利,情節(jié)嚴重的,處三年以下有期徒刑或者拘役,并處或者單處罰金。